这篇文章概括地介绍了五十年来离子镀膜技术的展开概略，介绍了离子镀膜技术的含义、原理、特征、展开和运用规划。从D.M.Mattox 发明离子镀膜技术以来的五十年中，离子镀膜技术习气高端商品加工和高新技术展开的需要，得到了飞速展开。各种鼓舞气体放电进程技术，前进等离子体密度的方法层出不穷，满意各种需要的新的薄膜材料在各个运用领域得到了广泛的运用。对国防作业、宇航作业、高新技术商品和美化人民生活做出了突出贡献。我们等候离子镀膜技术继往开来，在新的五十年中再放荣耀。

　　材料科学是国家展开的三大支柱之一，薄膜材料更是我国前沿科学和高新技术商品的重要基石。制备薄膜材料的技术跟着高新技术的展开，运用规划越来越宽广。开端制备薄膜技术有两大类：膜层粒子来源于固态物质源的真空蒸发镀膜技术和来源于气态物质源的化学气相堆积技术。真空蒸发镀首要运用于光学、半导体芯片的布线等领域；化学气相堆积首要运用在硬质合金刀头上堆积氮化钛硬质涂层和半导体器件中的单晶硅、多晶硅薄膜、外延生长GaAs 半导体材料。这两类技术的特征都是运用热源来加热固态膜料和鼓舞气态物质源分解、化合。蒸发温度和化学气相堆积温度在1000~2000 ℃规划。制备薄膜的能量来源于热源。

　　高新技术的展开需要各种具有格外功用的薄膜。例如：太阳能光热改换薄膜、光电改换薄膜、超导薄膜、透明导电薄膜、光磁存储薄膜、光电存储薄膜、铁电存储薄膜以及各种光敏、气敏、味敏传感薄膜等。只靠原有技术已经无法制备出这些薄膜，所以展开出把各种气体放电技术引进薄膜制备进程的离子镀膜技术，把膜层粒子离子化，然后前进膜层粒子的全体能量。这些技术包括蒸发型离子镀、磁控溅射离子镀和等离子体化学气相堆积，总称离子镀膜技术。近些年来这一技术展开很快。

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